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日本奧林巴斯ckx53倒置熒光顯微鏡

圖像質(zhì)量優(yōu)良且符合人體工學(xué)設(shè)計(jì)的奧林巴斯CKX53性能可靠，能夠讓包括活細(xì)胞觀察、細(xì)胞采樣與處置、圖像捕捉、以及熒光觀察在內(nèi)各種細(xì)胞培養(yǎng)需求獲得舒適的工作流程。

使用集成相襯(iPC)系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)快速高效的細(xì)胞觀察

CKX53 iPC系統(tǒng)的高襯度特點(diǎn)能夠以4x、10x、20x、和40x 倍率獲得清晰觀察效果，無需使用者對環(huán)狀光闌進(jìn)行更換或重新對中。

全新的相襯系統(tǒng)有助于實(shí)現(xiàn)簡單高效的細(xì)胞觀察，從而讓工作流程更快更舒適。

利用2X物鏡和FN22獲得清晰寬廣的觀察視野

PLN2X物鏡的環(huán)狀光闌CKX3-SLPAS擁有22mm的視場，直徑11mm。

由此，使用該物鏡觀察能夠完美高效地篩選所感興趣的細(xì)胞，獲得更快的細(xì)胞培養(yǎng)過程。

該2X物鏡與其他物鏡相比具有明顯更高的對比度，甚至能夠讓樣本中的透明目標(biāo)獲得清晰識別。

例如，在觀察96孔微孔板時，寬廣的視野在無需移動載物臺情況下即可觀察一個孔內(nèi)的所有細(xì)胞。

利用 “反轉(zhuǎn)對比” (IVC)技術(shù)實(shí)現(xiàn)3D觀察

采用這種全新開發(fā)的IVC技術(shù)，視場深度比相襯系統(tǒng)的深度更窄，這讓其能夠繪制任意形狀或透明度目標(biāo)的清晰三維圖像。

此外，IVC觀察還可獲得無光暈或定向陰影的清晰觀察效果，在觀察過程中確保目標(biāo)細(xì)節(jié)的完整性。

* 在這種新型IVC觀察中使用10X物鏡 (PLCN10X，CACHN10XIPC) 。

日本奧林巴斯ckx53倒置熒光顯微鏡

無菌條件下的高效細(xì)胞觀察

CKX53設(shè)計(jì)用于配合潔凈工作臺使用。 這款具有抗紫外線涂層的顯微鏡在紫外線滅菌過程中可留置在潔凈工作臺上。

與此前的CKX型號相比，CKX53重量大約輕了7公斤，且占地空間更小，因此占用的實(shí)驗(yàn)室空間小。

該顯微鏡僅用一只手就可輕松搬運(yùn)，搬運(yùn)時握持觀察鏡筒的頸部。 顯微鏡底座上配有滑動墊板，方便顯微鏡的定位。

方便在無菌工作臺環(huán)境進(jìn)行細(xì)胞采樣

CKX53視點(diǎn)與光軸/聚焦旋鈕之間更短的距離有助于保持自然的手部姿勢，讓聚焦和細(xì)胞采樣更加輕

方便人性化操作的人體工學(xué)設(shè)計(jì)

無論采用站姿還是坐姿進(jìn)行觀察，45度角目鏡和蝶形觀察鏡筒相對載物臺的位置均可有助于獲得符合人體工學(xué)設(shè)計(jì)的細(xì)胞觀察效果。

無菌作業(yè)能夠迅速開始和結(jié)束，大限度縮短細(xì)胞在恒溫箱外部的留置時間。
包括電源開關(guān)、粗細(xì)對焦、以及光路切換旋鈕等所有控制部件的位置均符合人體工學(xué)設(shè)計(jì)，由此可提高操作性能，緩解用戶疲勞。

可容納各種細(xì)胞培養(yǎng)容器

CKX53的通用支架能夠輕松實(shí)現(xiàn)對包括培養(yǎng)皿、微孔板和培養(yǎng)瓶在內(nèi)各種容器內(nèi)培養(yǎng)的細(xì)胞進(jìn)行觀察。 在使用選配支架時，載物臺上可放置三個35mm的培養(yǎng)皿。 此外，無需支架即可對各種類型的微孔板進(jìn)行操作處置。

實(shí)現(xiàn)對多層組織培養(yǎng)瓶更全面的觀察

CKX53的寬度和方便拆卸的聚光鏡讓其能夠?qū)χT如高度大190mm的多層組織培養(yǎng)瓶等容器進(jìn)行觀察。 PLCN4X物鏡優(yōu)良的焦深能夠?qū)崿F(xiàn)對多層組織培養(yǎng)瓶內(nèi)的兩個下層快捷方便的細(xì)胞觀察。

可使用多種器皿的靈活性

支架臂桿能夠升起，因此使用者可手動調(diào)節(jié)細(xì)胞培養(yǎng)容器的位置。此外，載物臺還可向左向右延長大70mm，方便獲得更大的操作靈活性。

利用各種熒光染料獲得清晰觀察

利用CKX53標(biāo)配熒光觀察組件，在諸如100 W汞燈 (U-LH100HG)、130 W高壓汞燈(U-HGLGPS)、以及第三方LED等各種集成光源的輔助下可清晰觀察到微弱的熒光信號 反射鏡單元滑塊上的三個槽可安裝與IX3和BX3顯微鏡相同型號的反射鏡。  

明亮條件下的高對比度

“Umbra遮光罩”專為CKX53的熒光觀察而設(shè)計(jì)。 該遮光罩能夠有效阻擋室內(nèi)光線，提高熒光對比度，并可在明亮條件下獲得清晰的熒光觀察效果。 在使用相襯時，Umbra遮光罩可升起，讓光線通過照射到樣本上。

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